超純水制備系統
設備概述
超純水最初是應用于研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等),采用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水,水中除了水分子(H20)外,幾乎不含雜質、礦物質微量元素及細菌、病毒、含氯二惡英等有機物。超純水在25℃時,電阻率為 18.3MΩ.cm,一般時約為15~18MΩ.cm,常規工藝無法滿足出水水質要求,需采用特殊工藝進行系統配置。
目前超純水已經在生物、醫藥、汽車、精細化工及電力系統等領域廣泛應用。
工藝處理
(一)出水≥18MΩ.CM 超純水處理流程
(二)出水≥17MΩ.CM 超純水處理流程
(三)出水≥15MΩ.CM 超純水處理流程
應用領域
--工業清洗工藝:單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、集成電路、液晶顯 示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產 工藝用純水。
--化工行業工藝:化工冷卻、化肥、化學藥劑制造用水。
--工業產品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗用水。
--電力行業鍋爐補給水:熱力、火力發電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統 精細化工、精尖學科用水。
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